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半导体炉管设备介绍

发布时间:2024-10-31 16:01:47

半导体炉管设备是干啥的 

半导体炉管设备是半导体生产过程中的关键设备之一,主要用于半导体材料的热处理工艺,如扩散、驱动入、氧化、沉积、退火和烧结等制程

炉管设备分为水平式和垂直式两种。水平式炉管,晶圆放置在石英晶舟上,且石英晶舟又放在SiC做的承载架上,且前后会有适应挡板。承载架推进石英炉管中,晶圆在恒温区进行反应。结束后晶圆也会缓慢拉出,避免馆内外温度差造成晶圆弯曲或破裂。垂直式炉管,晶圆在石英塔架上,然后缓慢上升到石英炉管内进行制程,反应晚也需要缓慢降下,防止弯曲或破裂。

炉管设备的工作原理是利用电阻式加热线圈环绕石英管,通过控制电流大小来调节加热温度。石棉隔热,最外层为不锈钢。管内有三个热电偶,分别测量前、中,后三个区域的温度。气体输送装置包括手动阀、微粒过滤器、压力调节器、气动阀、流量控制器等组成。

半导体炉管设备是半导体生产过程中不可或缺的一部分,其主要作用是通过高温热处理在晶圆表面形成绝缘膜或导入掺杂,从而控制晶体管的性能。设备的精确控制和稳定性对半导体产品的质量和性能有着重要影响。

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